JBX-3050MV serisi, 45 ila 32 nm tasarım kuralını karşılayan maske / retikül üretimi için bir elektron ışını litografi sistemidir. Bu sistem, üst düzey tekn
oloji ile elde edilen yüksek hız, yüksek doğruluk ve yüksek güvenilirlik ile desen yazma özelliğine sahiptir.
Özellikler
| Pozlama Yöntemi | Vektör tarama, değişken şekilli ışın |
| Hızlanma Gerilimi | 50 kV |
| Elektron Tabancası Yayıcı | LaB 6 tek kristal |
| Pattan | ≤ ± 4 nm (3δ) |
| Yazma Pozisyonu Doğruluğu | ≤ ± 10 nm |